等離子（PLASMA）清洗常用的氣體 

     等離子清洗機中常用的工藝氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、氫氣、四氟化碳等。它利用氣體電離產生的等離子體對工件表面進行處理。不同的工藝氣體會被用來達到的處理效果，那么等離子清洗機中常用的工藝氣體如何選擇呢？ 

氧氣 

    氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學處理方式。電離后產生的離子可以物理轟擊表面，形成粗糙的表面。同時，高活性氧離子可以與斷裂的分子鏈發生化學反應，形成活性基團的親水表面，從而達到表面活化的目的。 

     有機污染物的元素在斷鍵后會與高活性氧離子發生化學反應，形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子結構。從表面分離，從而達到表面清潔的目的。 

    氧氣主要用于高分子材料的表面活化和有機污染物的去除，但不適合易氧化的金屬表面。真空等離子體中的氧等離子體為淺藍色，在局部放電條件下類似白色。放電環境光線明亮，肉眼觀察真空室可能沒有放電。 

氬氣 

    氬氣是一種惰性氣體。電離后產生的離子不會與基底發生化學反應。主要用于等離子清洗中的物理清洗和基片表面粗糙化。最大的特點是在表面清洗時不會造成精密電子器件表面氧化。為此，氬等離子清洗機廣泛應用于半導體、微電子、晶圓制造等行業。 

    真空等離子清洗機中氬氣電離產生的等離子體為暗紅色。在相同的放電環境下，氫氣和氮氣產生的等離子體顏色為紅色，但氬氣等離子體的亮度會低于氮氣，高于氫氣，易于區分。 

    等離子清洗設備的真空系統部分，真空計一般推薦使用 Inficon 的 PSG500 系列，真空閥門推薦使用中國臺灣日揚的 KF16、KF25 和 KF40 的氣動角閥。 

本公司專業服務和代理： 

1、英福康（Inficon）真空計、檢漏儀、殘余氣體分析儀（RGA）、晶振片； 

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